Ai快讯 人民财讯10月7日消息，微导纳米在半导体设备研发领域取得重大突破，成功研发出国内首台量产型High - k ALD设备。该设备已顺利应用于集成电路制造前道生产线，攻克了国内集成电路突破关键制程节点的核心难题——高介电常数（High - k）栅氧层薄膜工艺，为国内半导体产业自主化进程贡献了重要力量。

与此同时，微导纳米的CVD设备在硬掩膜等关键工艺领域也取得了突破性进展。该公司成为国内首批成功开发硬掩膜化学气相沉积（CVD）设备，并顺利进入产业链核心厂商量产线的国产企业。

微导纳米的核心技术实现了多领域覆盖，能够精准适配逻辑芯片、存储芯片、先进封装、化合物半导体及新型显示中的薄膜沉积技术等关键应用场景。公司始终聚焦半导体先进制程薄膜工艺解决方案，不仅服务于半导体新架构、新器件的发展，还打通了国内先进半导体下一代技术迭代的需求，引领着行业的创新发展。

（AI撰文，仅供参考）