Ai快讯 9月4日，在第十三届半导体设备与核心部件及材料展（CSEAC 2025）半导体制造与设备及核心部件董事长论坛上，微导纳米CTO兼副董事长黎微明围绕集成电路专用薄膜沉积设备国产化新进展进行了主题分享。

演讲伊始，黎微明指出“三至五年后，单芯片上晶体管数量预计将达到1万亿颗，全球半导体市场规模有望达到1万亿美元”，“两个1万亿”展示了半导体产业的未来发展前景，也给新材料、新工艺、新设备带来新发展机遇。

在谈到半导体薄膜设备的发展前景时，黎微明以原子层沉积技术为例，该技术自2000年真正应用到半导体领域后，从最初覆盖三四层半导体制造工艺，发展到可能覆盖超过80层的半导体工艺，对器件结构起到了不可或缺的作用。他还介绍，采用微导纳米开发的原子层沉积多级曝光技术，可以在现有的光刻机精度下，持续突破芯片制程的技术节点，助推国产芯片发展。未来，逻辑制程技术走向高深宽比、存储走向三维堆叠结构、化合物器件需要更稳定的性能，包括HBM及先进封装等，都给原子层沉积技术创造了更多发展机遇。

谈及微导纳米的半导体业务发展，黎微明用“突飞猛进”来形容。微导纳米从2020年开启半导体业务，在不满五年的时间内，已经发货半导体设备近500台。在高介电常数材料和工艺性能等部分领域，微导纳米已经超越了国外设备商。在供应链建设方面，其零部件布局和国产化工作能够保障业务高速发展。

黎微明认为，微导纳米半导体业务快速成长的背后密码之一是创新。他强调，半导体设备、材料是晶圆厂的“粮草”，设备商必须跑在晶圆厂前头做创新，而不是等着晶圆厂客户先创新再跟随。除了满足客户的创新需求外，半导体设备商在客户服务、定制化工艺和装备等领域，具有更高效的服务能力，可以更高效支持本土晶圆厂发展。他还呼吁本土晶圆厂从“跟随”走向“创新”，与创新的设备商合作，采用更先进的技术来提升器件性能，通过整个产业链通力合作，提升追赶的速度。

微导纳米成立于2015年12月，于2022年12月登陆科创板，是一家面向全球的半导体、泛半导体高端微纳装备制造商。公司ALD设备已全面涵盖行业所需主流ALD薄膜材料及工艺，在CVD设备硬掩膜等关键工艺领域也已实现产业化突破。2025年半年报显示，微导纳米上半年新增半导体设备订单已超去年全年水平。截至6月30日，公司半导体领域在手订单达23.28亿元，较年初增长54.72%。

（AI撰文，仅供参考）